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光刻膠處理中的HMDS烘箱預(yù)烘烤
光刻膠處理中的HMDS烘箱預(yù)烘烤

光刻膠處理中的四大烘烤工藝——基板預(yù)烘烤、軟烘、曝光后烘烤與硬烘涂膠前的烘烤構(gòu)建牢靠的膠基結(jié)合基板表面處理是光刻膠附著的首要環(huán)節(jié)。當(dāng)溫度升至100°C時(shí),基材表面吸附的水分子開(kāi)始脫附,這一過(guò)程能有效消除“水膜屏障”,避免光刻膠與基板間因水分殘留導(dǎo)致的結(jié)合力下降。硅、玻璃、石英等氧化表面的羥基(-OH)會(huì)導(dǎo)致親水性表面,降低光刻膠附著力,而溫度進(jìn)一步升至150°C以上時(shí),羥基(-OH)會(huì)發(fā)生熱裂解反...

2025-11-06
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